ASML 发家史：从“漏雨棚屋”到全球光刻机领域领导者

2024年世俱洲际杯决赛，皇家马德里将对阵帕丘卡，据统计，皇家马德里最近20场国际赛事决赛只输了1场。皇家马德里将与墨西哥球队帕丘卡争夺2024年世俱洲际杯冠军。

IT之家 3 月 23 日消息，在当今半导体产业中，A L（Advanced Semiconductor M e al Lithography，先进半导体材料光刻）无疑是全球光刻机领域的绝对领导者。台积电、英特尔、三星等芯片制造巨头生产最先进的半导体产品，都高度依赖这家荷兰企业的设备。与许多科技领域的一样，A L 的起源也颇为低调。据公司传说，一切始于一个“漏雨的棚屋”。

A L 最初是由电子巨头飞利浦（Philips）和先进半导体材料国际公司（A I）合作成立的，目标是专注于光刻系统这一新兴市场。1984 年，A L 在荷兰埃因霍温的旧园区 St jp-T 成立，其 个基地就是那座名副其实的“漏雨”。这座单层预制建筑与飞利浦 TQ 大楼的一楼相连，而 TQ 大楼是飞利浦“工业电子”部门的所在地。当时，由于 A L 的 套系统 PAS 2000 光刻机的液压油泵噪音极大，团队不得不将油泵放置在小屋外的集装箱中，以维持正常工作环境。

幸运的是，A L 的业务很快就蓬勃发展起来。1985 年，公司搬进了专门建造的办公和工厂大楼。一年后，改进后的 PAS 2500 光刻机推向市场，并成为未来许多机型的基础。与此A L 与镜头制造商卡尔・蔡司（Carl Zeiss）建立了合作关系，这一合作一直延续至今。

进入 20 世纪 90 年代，A L 推出了其“突破性 ”PAS 5500 光刻机。凭借该系统在行业领先的生产力和分辨率，A L 在阿姆斯特丹和纽约证券交易所成功上市。

2001 年，A L 推出了具有革命性双工件台技术的首批 Twinscan 光刻机。2010 年，该系列光刻机进一步升级，推出了采用极紫外（EUV）技术的 Twinscan NXE:3100。近年来，A L 凭借其 EXE 和高数值孔径（High NA）技术，再次突破了行业极限。

根据 A L 最近发布的年度报告，公司去年的收入接近 310 亿美元（IT之家注：现汇率约合 2248.48 亿元人民币），在全球拥有超过 60 个运营地点，并雇佣了超过 4.4 万名员工。